Produktoversigt
PVD Composite Thin Film Equipment er en industriel vakuumaflejringsplatform, der er udviklet til at deponere tyndfilm i flere-lag, legeringer og nanokomposit. Ved at integrere magnetronforstøvning og katodiske lysbuekilder i et enkelt vakuumkammer muliggør systemet præcis kontrol over filmmikrostruktur, resterende spænding og grænsefladeadhæsion. Bygget til kontinuerlig produktion og avanceret forskning og udvikling, kan platformen rumme metalliske, keramiske og polymere substrater med skalerbare kammergeometrier.
-
PVD Composite Vacuum Deposition UdstyrDenne industrielle PVD-komposit-vakuumaflejringsplatform integrerer flere aflejringsteknikker i et enkeltkammermiljø for at afsætte ensartede, flerlags--metalliske, legerede eller dielektriske...Se mere
-
PVD Hybrid Tynd Film Deposition SystemPVD Hybrid Thin Film Deposition System integrerer termisk fordampning, elektronstrålefordampning (e-beam) og RF/DC magnetronforstøvning i en enkelt vakuumarkitektur. Denne platform muliggør...Se mere
-
PVD Multi-Process tyndfilmsudstyrPVD Multi-Process Thin Film Equipment er en integreret vakuumaflejringsplatform, der er udviklet til at kombinere flere tynde-filmfremstillingsteknikker – inklusive RF/DC Magnetron Sputtering,...Se mere
-
PVD-kompositaflejringsudstyrIndustrielt PVD Composite Deposition Equipment er udviklet til multi-komponent-, fler-- og nano-komposit tynd-filmfremstilling. Systemet integrerer termisk fordampning, e-strålefordampning og...Se mere
-
PVD-komposit tyndfilmsystemIndustrielt -vakuumbelægningssystem, der integrerer magnetronsputtering (RF/DC/HiPIMS) og katodisk lysbuefordampning. Designet til kontinuerlig, fler-lags-, legerings- og nano-komposit...Se mere
-
PVD-komposit tyndfilmsudstyrPVD Composite Thin Film Equipment er en industriel vakuumplatform designet til at syntetisere multi-lags-, legerings- og graderede tynde film. Bygget på en modulær 304L/316L rustfri...Se mere
Tekniske specifikationer
|
Parameter |
Specifikationsområde |
|
Ultimativt vakuumtryk |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
Arbejdstryk |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Underlagstemperatur |
Omgivende til 800 grader (PID-styret i lukket-sløjfe) |
|
Aflejringskilder |
Konfigurerbar: DC/RF Magnetron Sputtering, Pulseret DC, Filtreret katodisk bue |
|
Ensartethed i tykkelse |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
Kammermateriale |
304L/316L rustfrit stål, mekanisk slebet og elektro-poleret (Ra<= 0.4 um) |
|
Integration af strømforsyning |
MF-generatorer (10-100 kHz), RF-generatorer (13,56 MHz), pulseret DC-forspænding |
|
Kontrolsystem |
Industriel PLC + IPC med automatiseret receptudførelse, interlock-overvågning og batchdatalogning |
Sammensat aflejringsproces
Systemet anvender en hybrid fysisk dampaflejringsarkitektur, der kombinerer magnetronforstøvning og katodisk lysbueteknologi.
Multi-kildesynergi:
Samtidig eller sekventiel drift af flere katoder giver mulighed for bratte eller graderede kompositionsovergange på tværs af filmstakken.
Ionætsning før-rengøring:
RF- eller DC-plasmarensningstrin fjerner native oxider og overfladeforurenende stoffer før aflejring for at maksimere belægningen-til-underlagets vedhæftning.
Reaktiv aflejringskontrol:
Optisk emissionsspektroskopi med lukket-sløjfe (OES) regulerer reaktiv gasinjektion (O2, N2, C2H2) for at opretholde en stabil sammensætningsstøkiometri og forhindre målforgiftning.
Substratforspænding:
Synkroniserede pulserede bias-strømforsyninger bombarderer den voksende film med høje-energiioner, fortætter mikrostrukturen og skræddersy den resterende trykspænding.
Film materialer
Udstyret understøtter et bredt spektrum af målmaterialer til skræddersyede funktionelle krav:

Overgangsmetalnitrider og -karbider:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN for slid- og korrosionsbestandighed.

Nanokomposit- og flerlagssystemer:
TiSiN, AlTiSiN, metal/keramiske nanolag for ekstrem hårdhed og høj-temperatur termisk stabilitet.

Transparente ledende oxider (TCO):
ITO, AZO, IGZO til optoelektroniske og fotovoltaiske applikationer.

Rene metaller og legeringer:
Ti, Cr, Al, Cu, rustfrit stål, NiCr til elektrisk kontakt og diffusionsbarrierelag.
Ansøgninger
Præcisionsskæreværktøj:
Afsætning af super-hårde-friktionsbelægninger (f.eks. TiAlN) på hårdmetalskær, bor og ende-fræsere for at forlænge driftslevetiden under høje termiske belastninger.
Bilkomponenter:
Friktions-reduktion og slidbestandige-film på stempelringe, brændstofindsprøjtningsdele og gearsamlinger.
Optoelektronik og skærme:
Lav-resistivitet, høj-transmissionsledende oxidlag til berøringspaneler og solcellesubstrater.
Medicinsk udstyr:
Biokompatible og slidstærke-belægninger på kirurgiske instrumenter og ortopædiske implantater.
Tilpasning og systemkonfiguration
Tekniske konfigurationer er tilpasset specifikke produktionsfaciliteters begrænsninger og procesopskrifter:
Kammerstørrelse:
Cylindriske eller rektangulære kammermuligheder lige fra R&D batchsystemer (500 mm diameter) til stor-produktionsbelastning-låsesystemer (1000 mm+).
01
Udvalg af pumpesuite:
Matchende rodblæsere, turbomolekylære pumper og kryogene pumper baseret på påkrævede pumpe-stilstandstider og gasbelastningsprofiler.
02
Underlagsfastgørelse:
Tilpassede planetrotationstrin, 3-satellitrotation eller rulle-moduler designet til komplekse 3D-geometrier eller kontinuerlige baner.
03
Automatiseringsniveau:
Semi-automatiske manuelle belastningskonfigurationer eller fuldautomatiske vakuumoverførselssystemer med robotbaseret substrathåndtering.
04
Produktion og kvalitetskontrol
Lækagedetektion:
Hvert vakuumkammer gennemgår helium massespektrometer lækagetest til en tærskelværdi på < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.
Svejseinspektion:
Vakuum-sidesvejsninger er TIG-svejset, slebet og poleret, efterfulgt af røntgen- eller farvegennemtrængningsinspektion efter anmodning.
Overholdelse af elektricitet og sikkerhed:
Kontrolpaneler bygget i overensstemmelse med NFPA 79 eller CE/IEC-standarder, med hardware-låse til vandflow, gastryk og elektrisk sikkerhed.
Fabriksaccepttest (FAT):
Test før-forsendelse inkluderer 72-timers kontinuerlig tørring-cykling, verifikation af vakuumydelse og testbelægningsafsætning ved hjælp af klientspecificerede opskrifter.
Retningslinjer for webstedsforberedelse:Omfattende facilitetskravdokument medfølger, der beskriver forsyningsgrænseflader (kølevandsflow/-tryk, elektrisk belastning, trykluft, udstødning).
Idriftsættelse på-stedet:Feltserviceingeniører udfører mekanisk justering, vakuumlækagetjek, elektrisk binding- og indledende kalibrering.
Tuning af procesopskrifter:Samarbejde på-stedet med kundemetallurger og procesingeniører for at fastlåse målfilmtykkelse, stress og hårdhedsparametre.
Livscyklussupport:Fjerndiagnosegrænseflade, lokaliseret reservedelslager og planlagte forebyggende vedligeholdelsesprogrammer.

FAQ
Vi er velkendt-som en af de førende producenter og leverandører af pvd-komposit tyndfilmudstyr i Kina. Hvis du vil købe tilpasset pvd-komposit tyndfilmsudstyr lavet i Kina, velkommen til at få prisliste fra vores fabrik. Kontakt os for priskonsultation.
