Produktoversigt

 

PVD Composite Thin Film Equipment er en industriel vakuumaflejringsplatform, der er udviklet til at deponere tyndfilm i flere-lag, legeringer og nanokomposit. Ved at integrere magnetronforstøvning og katodiske lysbuekilder i et enkelt vakuumkammer muliggør systemet præcis kontrol over filmmikrostruktur, resterende spænding og grænsefladeadhæsion. Bygget til kontinuerlig produktion og avanceret forskning og udvikling, kan platformen rumme metalliske, keramiske og polymere substrater med skalerbare kammergeometrier.

 
  • PVD Composite Vacuum Deposition Udstyr
    Denne industrielle PVD-komposit-vakuumaflejringsplatform integrerer flere aflejringsteknikker i et enkeltkammermiljø for at afsætte ensartede, flerlags--metalliske, legerede eller dielektriske...
    Se mere
  • PVD Hybrid Tynd Film Deposition System
    PVD Hybrid Thin Film Deposition System integrerer termisk fordampning, elektronstrålefordampning (e-beam) og RF/DC magnetronforstøvning i en enkelt vakuumarkitektur. Denne platform muliggør...
    Se mere
  • PVD Multi-Process tyndfilmsudstyr
    PVD Multi-Process Thin Film Equipment er en integreret vakuumaflejringsplatform, der er udviklet til at kombinere flere tynde-filmfremstillingsteknikker – inklusive RF/DC Magnetron Sputtering,...
    Se mere
  • PVD-kompositaflejringsudstyr
    Industrielt PVD Composite Deposition Equipment er udviklet til multi-komponent-, fler-- og nano-komposit tynd-filmfremstilling. Systemet integrerer termisk fordampning, e-strålefordampning og...
    Se mere
  • PVD-komposit tyndfilmsystem
    Industrielt -vakuumbelægningssystem, der integrerer magnetronsputtering (RF/DC/HiPIMS) og katodisk lysbuefordampning. Designet til kontinuerlig, fler-lags-, legerings- og nano-komposit...
    Se mere
  • PVD-komposit tyndfilmsudstyr
    PVD Composite Thin Film Equipment er en industriel vakuumplatform designet til at syntetisere multi-lags-, legerings- og graderede tynde film. Bygget på en modulær 304L/316L rustfri...
    Se mere
 
Tekniske specifikationer

 

Parameter

Specifikationsområde

Ultimativt vakuumtryk

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Arbejdstryk

0,1 Pa - 5.0 Pa

Underlagstemperatur

Omgivende til 800 grader (PID-styret i lukket-sløjfe)

Aflejringskilder

Konfigurerbar: DC/RF Magnetron Sputtering, Pulseret DC, Filtreret katodisk bue

Ensartethed i tykkelse

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Kammermateriale

304L/316L rustfrit stål, mekanisk slebet og elektro-poleret (Ra<= 0.4 um)

Integration af strømforsyning

MF-generatorer (10-100 kHz), RF-generatorer (13,56 MHz), pulseret DC-forspænding

Kontrolsystem

Industriel PLC + IPC med automatiseret receptudførelse, interlock-overvågning og batchdatalogning

 

Sammensat aflejringsproces

Systemet anvender en hybrid fysisk dampaflejringsarkitektur, der kombinerer magnetronforstøvning og katodisk lysbueteknologi.

Multi-kildesynergi:

Samtidig eller sekventiel drift af flere katoder giver mulighed for bratte eller graderede kompositionsovergange på tværs af filmstakken.

 

Ionætsning før-rengøring:

RF- eller DC-plasmarensningstrin fjerner native oxider og overfladeforurenende stoffer før aflejring for at maksimere belægningen-til-underlagets vedhæftning.

Reaktiv aflejringskontrol:

Optisk emissionsspektroskopi med lukket-sløjfe (OES) regulerer reaktiv gasinjektion (O2, N2, C2H2) for at opretholde en stabil sammensætningsstøkiometri og forhindre målforgiftning.

Substratforspænding:

Synkroniserede pulserede bias-strømforsyninger bombarderer den voksende film med høje-energiioner, fortætter mikrostrukturen og skræddersy den resterende trykspænding.

 

Film materialer

Udstyret understøtter et bredt spektrum af målmaterialer til skræddersyede funktionelle krav:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Overgangsmetalnitrider og -karbider:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN for slid- og korrosionsbestandighed.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Nanokomposit- og flerlagssystemer:

TiSiN, AlTiSiN, metal/keramiske nanolag for ekstrem hårdhed og høj-temperatur termisk stabilitet.

 
PVD Composite Thin Film System

Transparente ledende oxider (TCO):

ITO, AZO, IGZO til optoelektroniske og fotovoltaiske applikationer.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Rene metaller og legeringer:

Ti, Cr, Al, Cu, rustfrit stål, NiCr til elektrisk kontakt og diffusionsbarrierelag.

 
Ansøgninger
 
 
 

Præcisionsskæreværktøj:

Afsætning af super-hårde-friktionsbelægninger (f.eks. TiAlN) på hårdmetalskær, bor og ende-fræsere for at forlænge driftslevetiden under høje termiske belastninger.

 
 

Bilkomponenter:

Friktions-reduktion og slidbestandige-film på stempelringe, brændstofindsprøjtningsdele og gearsamlinger.

 
 

Optoelektronik og skærme:

Lav-resistivitet, høj-transmissionsledende oxidlag til berøringspaneler og solcellesubstrater.

 
 

Medicinsk udstyr:

Biokompatible og slidstærke-belægninger på kirurgiske instrumenter og ortopædiske implantater.

 

 

Tilpasning og systemkonfiguration

Tekniske konfigurationer er tilpasset specifikke produktionsfaciliteters begrænsninger og procesopskrifter:

Kammerstørrelse:

Cylindriske eller rektangulære kammermuligheder lige fra R&D batchsystemer (500 mm diameter) til stor-produktionsbelastning-låsesystemer (1000 mm+).

01

Udvalg af pumpesuite:

Matchende rodblæsere, turbomolekylære pumper og kryogene pumper baseret på påkrævede pumpe-stilstandstider og gasbelastningsprofiler.

02

Underlagsfastgørelse:

Tilpassede planetrotationstrin, 3-satellitrotation eller rulle-moduler designet til komplekse 3D-geometrier eller kontinuerlige baner.

03

Automatiseringsniveau:

Semi-automatiske manuelle belastningskonfigurationer eller fuldautomatiske vakuumoverførselssystemer med robotbaseret substrathåndtering.

04

 

Produktion og kvalitetskontrol
 

Lækagedetektion:

Hvert vakuumkammer gennemgår helium massespektrometer lækagetest til en tærskelværdi på < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Svejseinspektion:

Vakuum-sidesvejsninger er TIG-svejset, slebet og poleret, efterfulgt af røntgen- eller farvegennemtrængningsinspektion efter anmodning.

Overholdelse af elektricitet og sikkerhed:

Kontrolpaneler bygget i overensstemmelse med NFPA 79 eller CE/IEC-standarder, med hardware-låse til vandflow, gastryk og elektrisk sikkerhed.

Fabriksaccepttest (FAT):

Test før-forsendelse inkluderer 72-timers kontinuerlig tørring-cykling, verifikation af vakuumydelse og testbelægningsafsætning ved hjælp af klientspecificerede opskrifter.

 

 

Installation og teknisk support

Retningslinjer for webstedsforberedelse:Omfattende facilitetskravdokument medfølger, der beskriver forsyningsgrænseflader (kølevandsflow/-tryk, elektrisk belastning, trykluft, udstødning).


Idriftsættelse på-stedet:Feltserviceingeniører udfører mekanisk justering, vakuumlækagetjek, elektrisk binding- og indledende kalibrering.


Tuning af procesopskrifter:Samarbejde på-stedet med kundemetallurger og procesingeniører for at fastlåse målfilmtykkelse, stress og hårdhedsparametre.


Livscyklussupport:Fjerndiagnosegrænseflade, lokaliseret reservedelslager og planlagte forebyggende vedligeholdelsesprogrammer.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

FAQ

 

 

Q: Hvad er den typiske nedetid for pumpen- for at nå basistrykket?

A: Ved at bruge standard høje-vakuumkonfigurationer (turbomolekylære eller kryogene pumper parret med pumper med rødder/roterende skovlstøtter) evakueres kammeret fra atmosfæren til < 5,0 x 10^-4 Pa inden for 25 til 40 minutter, afhængigt af kammervolumen og fugtudgasningsbelastning.

Sp.: Kan systemet automatisk skifte mellem reaktiv og ikke-reaktiv sputtertilstand?

A: Ja. PLC-kontrolsoftwaren styrer massestrømscontrollere (MFC'er) og strømforsyningsudgange dynamisk, hvilket muliggør automatiseret overgang mellem metallisk aflejring og dannelse af reaktiv forbindelse inden for en enkelt procescyklus.

Spørgsmål: Hvilke substratgeometrier kan standardplanetrotationstrinnet rumme?

A: Standard 3-akset planetarmatur håndterer komplekse 3D-komponenter såsom skæreværktøjer og bilventiler. Brugerdefinerede jigs kan konstrueres til flade underlag op til 400 mm x 400 mm eller cylindriske ruller.

Spørgsmål: Hvordan sikrer du ensartet filmtykkelse på tværs af store partier?

Sv: Ensartethed opnås gennem optimeret afstand mellem katode-til-substrat, lokaliseret magnetfeltprofilsimulering og multi-planetrotation. Faktisk ensartethed verificeres via vidneprøvetest under FAT.

Q: Hvad er brugskravene til en standard industriel enhed?

A: Kræver typisk 3-faset 380V/480V (50/60Hz), kølet kølevandsforsyning (ca. 15 til 20 grader ved 3 til 4 bar), trykluft (6 bar) til pneumatiske ventiler og ren tør luft eller nitrogen til udluftning. Præcise belastninger varierer afhængigt af strømforsyningskonfigurationen.

Vi er velkendt-som en af ​​de førende producenter og leverandører af pvd-komposit tyndfilmudstyr i Kina. Hvis du vil købe tilpasset pvd-komposit tyndfilmsudstyr lavet i Kina, velkommen til at få prisliste fra vores fabrik. Kontakt os for priskonsultation.

Send forespørgsel
Kontakt oshvis du har spørgsmål

Du kan enten kontakte os via telefon, e-mail eller online formularen nedenfor. Vores specialist vil kontakte dig snarest.

Kontakt nu!