Kina Multi-Arc Ion Thin Film Equipment Manufacturers Suppliers Factory

Produktoversigt

Industrielt multi--ion-belægningsudstyr udviklet til påføring af hårde belægninger, funktionelle film og dekorative PVD-finisher på præcisionskomponenter. Ved at bruge en høj-lav--vakuumbueudladning fordamper systemet direkte faste målmaterialer (Ti, Cr, Al, Zr). Når det kombineres med reaktive gasser (N2, O2, C2H2), syntetiserer det tætte overgangsmetalnitrider, karbider og oxider direkte på metalliske substrater.

Bygget på en modulær vakuumkammerarkitektur kan denne nøglefærdige PVD-løsning rumme varierende produktionsskalaer-fra R&D-batchbehandling til automatiseret,-inline-produktion med høj kapacitet. Systemet er optimeret til høj måludnyttelse og lave Total Cost of Ownership (TCO) i kontinuerlige 24/7 industrielle miljøer.

Multi-Arc Vacuum Deposition Udstyr
Dette multi-bue-vakuumaflejringssystem anvender katodisk lysbue-ion-belægningsteknologi til at afsætte tætte,-hårde belægninger med høj vedhæftning på metalliske og ikke-metalliske underlag. Ved...
Se mere
Multi-Arc Ion Deposition System
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionisering af fast...
Se mere
Multi-Arc PVD tyndfilmsudstyr
Det industrielle Multi-Arc PVD-system anvender høj-ionisering af katodisk lysbuefysisk dampaflejring til at afsætte tætte, støkiometriske hårde belægninger (såsom TiN, TiAlN, CrN og DLC) på...
Se mere
Multi-Arc Ion Deposition Udstyr
Det industrielle multi-Arc Ion Deposition System genererer tætte, tynde film med høj-adhæsion gennem høj-strøm, lav-katodisk lysbuefordampning. Faste målmaterialer (katoder) fordampes i en reaktiv...
Se mere
Multi-Arc Ion tyndfilmsystem
Det industrielle multi-Arc Ion Thin Film System anvender katodisk lysbuefordampning til at afsætte tætte, høj-vedhæftende keramiske og metalliske belægninger på metal- og legeringsunderlag. Ved at...
Se mere
Multi-Arc Ion tyndfilmsudstyr
Dette multi-bue-ion-pletteringssystem bruger katodisk lysbuefordampning til at afsætte tætte, hårde-hårde belægninger med høj vedhæftning og funktionelle tynde film. Ved at slå en lysbue med...
Se mere

Tekniske specifikationer

Parameter	Specifikationsområde	Enhed / Bemærk
Kammerdimensioner	Ф600 x 600 til Ф1500 x 1800	mm (brugerdefinerede lodrette eller vandrette konfigurationer)
Ultimativt vakuumtryk	<= 5.0 x 10^-4	Pa (tørpumpe + turbo-molekylær / oliediffusionssæt)
Katodebuekilder	4 til 16 enheder	Elektromagnetisk styrede eller filtrerede lysbuekilder (FCA)
Substrat Bias Power	0 til -1000	V (avanceret pulseret DC/MF bias-kapacitet)
Opvarmningstemperatur	Rumtemperatur til 600	C (PID kontrollerede strålevarmere)
Deponeringsensartethed	<= +/- 5%	Målt via XRF på tværs af den effektive arbejdszone
Kontrolsystem	PLC + Industriel PC	Automatiseret opskriftsudførelse, SCADA-datalogning
Sikkerhed og overholdelse	CE, ISO 9001	UL-kompatible elektriske kabinetter fås på anmodning

Multi-Arc Ion Deposition Process

Den fysiske dampaflejringssekvens fungerer på et strengt, lukket-sløjfe automatiseret workflow for at sikre batch-til-batch repeterbarhed:

Evakuering og afgasning:

Vakuumkammeret pumpes ned til et basistryk på<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.

Plasmaætsning (bombardement):

Argongas indføres. En høj negativ forspænding påføres substratholderen, hvilket genererer Ar-ioner, der bombarderer overfladen for at sputtere native oxider og mikro-forurenende stoffer væk.

Buefordampning og -ionisering:

DC-buestrøm rammer den solide metalliske katode. Den lokale katodeplet når ekstrem energitæthed og fordamper øjeblikkeligt målmaterialet til en plasmastrøm med høj-densitet (ioniseringshastighed > 80%).

Reaktiv aflejring:

Reaktive gasser injiceres i plasmafluxen ved præcist kontrollerede partialtryk via Mass Flow Controllers (MFC'er), og danner støkiometriske sammensatte film på roterende substrater.

Køling og udluftning:

Kontrolleret afkøling sker under inert gasbeskyttelse før kammerudluftning, hvilket forhindrer oxidation af nybelagte dele.

Filmmaterialer og belægningsegenskaber

Systemet understøtter multi-metalkatodearrangementer, hvilket muliggør monolag-, flerlags-, nano-komposit- og gradientfilmarkitekturer:

TiN (Titanium Nitride):

Standard gylden belægning; hårdhed 2200–2400 HV; friktionskoefficient 0,4. Primær anvendelse: almindeligt skærende værktøj og mekaniske sliddele.

TiAlN (Titanium Aluminium Nitride):

Høj-temperaturoxidationsbestandighed op til 850 C; hårdhed 3000–3300 HV. Primær anvendelse: høj-tørbearbejdningsskær og motorventiler.

CrN / CrAlN (Chromium Nitride):

Fremragende korrosionsbestandighed og lav indre belastning; anti-anfaldsegenskaber mod ikke-jernholdige metaller. Primær anvendelse: formning af forme, stempelringe og tekstilmaskinerikomponenter.

ZrN / TiCN:

Lav overfladeruhed (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

Ansøgninger

Præcisionsskæreværktøj:

Pindfræsere, bor, kogeplader og vendeskær, der kræver forlænget værktøjslevetid under høje termiske belastninger.

Automotive drivlinje:

Stempelstifter, ventilløftere, brændstofindsprøjtningskomponenter og gearoverflader, der kræver reduceret grænsefriktion og slidmodstand.

Forme og matricer:

Plastsprøjtestøbeforme, prægeforme og-støbeindsatse, der kræver modstand mod klæbemiddelslid og termisk træthed.

Luftfartskomponenter:

Turbineblade og titanium-befæstelser, der arbejder under aggressive korrosive og høje-belastningsmiljøer.

Tilpasning og systemkonfiguration

Standardkatalogartikler passer sjældent perfekt til dedikerede fabrikslayouts. Udstyrskonfigurationer er skræddersyet baseret på specifik komponentgeometri, cyklustidsmål og faciliteters begrænsninger:

Kammergeometri:

Ottekantede eller cylindriske kamre i rustfrit stål (SUS304/SUS316L) med dobbelt-væggede vand-kølekapper.

Kildelayout:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

Underlagsfastgørelse:

Planetrotation (3-akse) eller enkeltrotationsmekanismer drevet af magnetiske væskegennemstrømninger for at garantere ensartet belægningsdækning på komplekse 3D-geometrier.

Muligheder for pumpestabel:

Root-blæsere, roterende vingepumper, kryogene pumper eller turbomolekylære pumper, der er konfigureret til at overholde strenge -pumpecyklustider.

Kvalitetskontrol og testprotokoller

Hver maskine gennemgår streng Factory Acceptance Testing (FAT) før afsendelse, dokumenteret til købergennemgang:

Vakuumintegritetstest:

Helium lækagedetektion ved hjælp af massespektrometri (lækagehastighed<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

Elektrisk sikkerhed og indbrænding-:

72-timers kontinuerlig tørkørsel af strømforsyninger, vandkølingslåse og PLC-automatiseringslogik.

Belægningsbekræftelse (internt-laboratorium):

Prøvekørsler testet via Calo-test (filmtykkelse), Rockwell-indrykning (vedhæftningsstyrke) og nanoindentation (hårdhed).

Installation, idriftsættelse og teknisk support

Retningslinjer for webstedsforberedelse:

Detaljerede forsyningstegninger til rådighed for kølevandsflow/-tryk, trykluft, udsugningsventilation og elektriske samleskinnekrav.

SAT & idriftsættelse:

Installation på-stedet (Site Acceptance Testing), vakuumkalibrering og basislinjeopskriftsoverdragelse udført af senior PVD-procesingeniører.

Procestræning:

Praktisk-operatørtræning, der dækker tidsplaner for katodeudskiftning, forebyggende vakuumvedligeholdelse, fejlfinding og grundlæggende receptoptimering.

Reservedelssupport:

Kritiske slidkomponenter (katoder, skjolde, isolatorer og tætninger) på lager til global afsendelse inden for 48 timer.

Ofte stillede spørgsmål

Spørgsmål: Hvordan undertrykker du makropartikler (dråber), der er iboende i multi-bue-ionplettering?

A: Vi bruger justerbare magnetiske styrefelter kombineret med optimerede buestrømsbølgeformer for at stabilisere katodepunkter og reducere dråbeemission. Til ultra-glatte optiske eller medicinske applikationer kan systemet integreres med Filtered Cathodic Arc (FCA)-kilder.

Q: Hvad er den typiske ekspeditionstid for en brugerdefineret kammerkonfiguration?

A: Standardkonfigurationer sendes inden for 16 til 20 uger. Fuldt tilpassede kammerdimensioner, automatiserede robotladegrænseflader eller specialiserede kryogene pumpesystemer kræver 24 til 30 uger fra P&ID-tegningsgodkendelse.

Sp: Kan systemet gemme flere belægningsopskrifter for forskellige delfamilier?

A: Ja. Det industrielle PLC-styringssystem gemmer op til 100 individuelle procesopskrifter. Dette muliggør automatiseret et-tryk over gasmassestrømsregulatorer (MFC'er), forspændingsramping, buestrømsekventering og specifikke trintider.

Vi er vel-kendt som en af de førende producenter og leverandører af multi-ion tyndfilmudstyr i Kina. Hvis du vil købe tilpasset multi-arc ion tyndfilmsudstyr fremstillet i Kina, er du velkommen til at få prisliste fra vores fabrik. Kontakt os for priskonsultation.