The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80 % ionisering af fast katodemateriale, der driver høj-ionbombardement ind i substratgrænsefladen for overlegen filmadhæsion sammenlignet med magnetronforstøvning.
Det dobbelt-væggede vakuumkammer i rustfrit-stål rummer modulære lysbuekilder og en PLC-styret automatisk cyklusstyringspumpe-ned, in-situ plasmaætsning, reaktiv gaslevering og fler-aflejring.
Tekniske specifikationer
|
Parameter |
Specifikation |
|
Kammerstørrelse |
Tilpasset indvendig diameter (Phi 800 mm - Phi 1500 mm) |
|
Fartøjsmateriale |
Dobbelt-væggede SUS304 / SUS316L med interne kølekanaler |
|
Basistryk |
<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped) |
|
Pumpe-nedetid |
Atmosfære til 6,0 x 10^-2 Pa in<= 15 minutes (clean, empty) |
|
Bue katoder |
4 til 12 rektangulære eller cirkulære kilder |
|
Strømforsyninger |
DC-bue (0-200 A) og pulseret bias (0-3000 V) |
|
Rotation af underlag |
Fler-akse planetarisk/enkelt-rotation via magnetisk væskegennemføring |
|
Kontrolsystem |
Siemens S7-1500 PLC + IPC med automatiserede opskrifter |
|
Krav til hjælpemidler |
Kølevand (18-25 C, 0,2-0,4 MPa); Trykluft (0,5-0,7 MPa) |
Nøglefunktioner
Høj ioniseringshastighed:Minimerer filmdelaminering via tæt ionbombardement.
Styret lysbuestabilitet:Programmerbare triggere og lukket-strømregulering undertrykker dannelse af makropartikler (dråber) og forhindrer målforgiftning under reaktive gasser (N2, C2H2, O2).
Modulære lysbuekilder:Side- og dørplaceringer tilpasser sig komplekse 3D-værktøjsgeometrier for ensartet tykkelsesfordeling.
Pulserende substratbias:Synkroniserede spændingsimpulser skræddersy restspænding, kornforfining og mikrohårdhed.
Tunge-rotationsfaser:Planetarmaturer understøtter batchbelastninger op til 500 kg under høje termiske og vakuumbelastninger.
Konfiguration af vakuumsystem
Skrubning og rødder:Fler-tørskruepumper parret med Roots-blæsere forhindrer kulbrinteforurening ned til overgangstryk.
Højt vakuum:Turbomolekylære pumper eller diffusionspumper opretholder ultra-højt basistryk.
Fangst og måling:Valgfri flydende nitrogen kuldefælder; bredt-udvalg af Pirani/Cold Cathode kombinationsmålere.
Fordampningsmaterialer og substratkompatibilitet
Katodemål:Rene metaller (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) og legeringsmål (TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co).
Underlagsmaterialer:Høj-hastighedsstål (HSS), hårdmetalskær, koldt/varmt arbejdsværktøjsstål (SKD11, H13), rustfrit stål og titanlegeringer.
For-Behandling:Vandig ultralydsrensning efterfulgt af in-situ Ar+- eller metalionbombardementætsning for at fjerne native oxider.
Ansøgninger
Skæreværktøj:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >3000 HV overfladehårdhed og oxidationsbestandighed.
Forme og matricer:Beskyttende lag på sprøjtestøbeforme og stansematricer for at forhindre gnidning og slibende slid.
Automotive:DLC- og CrN-belægninger på stempelringe, gear og injektorstifter for at sænke friktionskoefficienterne.
Medicinsk udstyr:Biokompatible TiN/TiCN-belægninger på kirurgiske instrumenter og implantater.
Tilpasningsmuligheder
Kammerdimensioner og portlayout:Skræddersyede volumen og optisk emissionsovervågning (OEM) porte.
Generatorer:Kunde-specificerede strømforsyningsmærker eller specialiserede pulserede-bias-konfigurationer.
Filtrering:Magnetiske styrefelter og makropartikelfiltre til nul-optiske/elektroniske finish.
Automatisering:SCADA-integration og SQL-databaseforbindelse til Industry 4.0-datalogning.
Kvalitetskontrol og fabriksgodkendelsestest
Lækagetest:Helium massespektrometer test på alle svejsninger (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).
Elektrisk sikkerhed:Isolationsmodstand, jordforbindelse og sikringskontrol i henhold til CE/NFPA-standarder.
Funktionel tørløb:72-timers kontinuerlig mekanisk og ventilcyklustest.
Procesbekræftelse:Referencekupontestning for nanoindentationshårdhed og ridsevedhæftning.
Installation & Support
Før-installation:Utility layout blueprints for strøm, vand, udstødning og trykluft.
Idriftsættelse:Opsætning og prøvekørsler på-stedet overvåget af fabriksingeniører.
Uddannelse:Praktisk-betjening, katodeudskiftning og rutinemæssig vedligeholdelse.
Livscykluspleje:Sikker VPN-fjerndiagnostik og lokal levering af reservedele.
FAQ
Q: Hvordan kontrolleres makropartikler (dråber) under katodisk lysbueaflejring?
A: Afbødning er afhængig af optimerede buestrømme, høj-magnetisk styring og valgfri magnetiske makropartikelfiltre til ultra-glatte overfladekrav.
Q: Hvad er den typiske katodemåludnyttelseshastighed?
A: Udnyttelsen varierer mellem 55 % og 70 % baseret på katodeerosionsprofiler og magnetfeltkonfigurationer.
Sp: Kan systemet styre reaktiv gasaflejring for film med flere-elementer som TiAlN?
A: Ja. Massestrømsregulatorer (MFC'er) bruger optisk emission eller partialtrykfeedback til at stabilisere reaktive strømme (N2, CH4) og opretholde den støkiometriske sammensætning.
Q: Hvad er de elektriske strømkrav?
A: Standardsystemer kræver 3-faset strøm (380V-480V, 50/60 Hz), med en samlet belastningskapacitet på 60 kVA til 150 kVA afhængigt af katodemængden.
Populære tags: multi-arc ion deposition system, Kina multi- arc ion deposition system fabrikanter, leverandører, fabrik
