Produktoversigt
Industrial Cathodic Arc Evaporation System er en produktions-fysisk dampaflejringsplatform (PVD) udviklet til at afsætte slid--bestandige, korrosions--bestandige og hårde belægninger med lav-friktion. Ved at anvende elektriske lysbuer med lav-spænding og høj-strøm fordampes og ioniseres faste katodemål øjeblikkeligt på katodepunktet, hvilket genererer stærkt ioniseret metalplasma.
Dette system er designet og fremstillet i henhold til ISO 9001 kvalitetsstyringsstandarder og CE-overholdelsesdirektiver, og det er konfigureret til høj-belægningsoperationer i værktøjsfremstilling, bilkomponenter og industriel hardware. Standardkonfigurationer integrerer multi-katodelayouts med uafhængig magnetisk-feltstyring, programmerbare DC/pulsed bias-strømforsyninger og automatiseret vakuumstyring for at opretholde ensartet filmstøkiometri og tætte mikrostrukturer.
-
Arc Evaporation Thin Film SystemIndustrial Cathodic Arc Evaporation Thin Film System er udviklet til den høje-aflejring af tætte, stærkt klæbende metalliske, legerede og keramiske sammensatte belægninger. Systemet fungerer via...Se mere
-
Arc Evaporation PVD-udstyrDet industrielle PVD-system til katodisk lysbuefordampning anvender elektriske lysbuer med lav-spænding og høj-strøm til at fordampe faste katodemål i et vakuummiljø. Denne mekanisme opnår en...Se mere
-
Vacuum Arc Tynd Film SystemIndustrial Vacuum Arc Thin Film System anvender katodisk lysbuefordampning til at afsætte tætte, meget klæbende metal-, legerings- og keramiske tyndfilm. En lysbue med høj-strøm og lav-spænding...Se mere
-
Katodisk bue tyndfilmsudstyrFysisk dampaflejring (PVD)-system, der anvender lokaliseret lav-spænding, høj-strøm elektriske lysbuer til at fordampe faste katodemål til fuldt ioniseret plasma. Den høje ioniseringshastighed (40...Se mere
-
Udstyr til buefordampningIndustriel fysisk dampaflejring (PVD) platform udviklet til høj-syntese af tætte, slidbestandige- og funktionelle hårde belægninger. Opretholdelse af en høj-, lav-katodisk lysbueudledning på faste...Se mere
-
Buefordampning tyndfilmsudstyrDette katodisk lysbuefordampningssystem fordamper faste katodemål via en elektrisk lysbue med lav-spænding og høj-strøm for at generere fuldt ioniseret metalplasma. Sammenlignet med standard...Se mere
Tekniske specifikationer
|
Parameter |
Specifikationsområde / Standardkonfiguration |
|
Kammerdimensioner |
Diameter: 800 mm - 1800 mm (tilpassede lodrette/vandrette layouts) |
|
Kammermateriale |
Dobbelt-vægget SUS304 rustfrit stål med indvendige vand-kølekanaler |
|
Ultimativt vakuumtryk |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups) |
|
Katodekonfiguration |
4 til 12 rektangulære/cirkulære buekilder med elektromagnetisk styring |
|
Bue strømforsyning |
300A - 500En justerbar konstant strøm, krusning<= 2% |
|
Substrat Bias Power |
0 til -1000V justerbar, pulseret bias frekvens 10 kHz - 100 kHz |
|
Varmesystem |
Radiant heater array, maks. temperatur 600 grader +/- 5 graders ensartethed |
|
Rotation af emnet |
Planetarisk eller dobbelt-akse rotation drevet af magnetisk væskegennemstrømning |
|
Kontrolsystem |
PLC + industriel pc, recept-drevet automatiseret sekvensstyring |
|
Krav til hjælpemidler |
Kølevand: 0,25-0,35 MPa, 20-25 grader; Strøm: 380V/480V, 3-faset, 50/60 Hz |
Buefordampningsproces
Afsætningscyklussen fungerer under streng proceduremæssig kontrol for at garantere filmintegritet og grænsefladeadhæsion:
Evakuering og afgasning:
Vakuumkammeret pumpes ned til basistrykket. Underlaget opvarmes under vakuum for at eliminere flygtige overflader og resterende fugt.
01
Plasmaætsning (rengøring):
Metalionbombardement (ved hjælp af titanium- eller krommålkilder) renser substratoverfladen på atomniveau, fjerner native oxider og aktiverer grænsefladen.
02
Reaktiv aflejring:
Reaktive gasser (N2, CH4, O2) sprøjtes ind i kammeret gennem massestrømsregulatorer (MFC'er) for at reagere med metalplasmafluxen (f.eks. Ti, Cr, AlTi) og danne sammensatte film såsom TiN, TiAlN eller CrN.
03
Køling og udluftning:
Efter-aflejringskøling finder sted under beskyttende inert gasatmosfære før kammerudluftning og udtagning af dele.
04

Understøttede katodemål
Titanium (Ti) og Titanium Aluminium (TiAl):Basismaterialer til standard TiN og TiAlN-belægninger med høj-oxidations-modstand (modstår oxidation op til 900 grader).
Chrom (Cr):Bruges til dekorative finish og korrosionsbestandige-CrN/CrC-lag.
Zirconium (Zr) & Titanium Silicium (TiSi):Anvendt til specialiserede dekorative og ekstremt slidbestandige-nanokompositfilm.
Kompatible underlagsmaterialer
High-Speed Steel (HSS):Spirebor, endefræsere, kogeplader og brocher.
Cementeret hårdmetal (WC-Co):Indekserbare skær, oprømmere og forme.
Tekniske stål og legeringer:Automotive ventilkomponenter, gear, rustfrit stål sanitært hardware og titanium medicinske implantater.
Applikationer og præstationspåvirkning
Metal skæreværktøj:
Afsætning af TiAlN- og AlCrN-belægninger på hårdmetalskær og endefræsere, forlænger værktøjets levetid med 200 % til 300 % og muliggør tør bearbejdning med høj-hastighed.
Forme- og stemplingsmatricer:
Påføring af tætte,-lavfriktionsbelægninger for at reducere klæbemiddelslid, gnavning og fastklæbning af emnet under dybtrækning, hvilket reducerer nedetiden med op til 40 %.
Automotive drivlinje:
Behandling af stempelringe, brændstofindsprøjtningsstifter og trykventiler for at minimere grænsefriktionskoefficienten ned til < 0,15 og forhindre slid.
Industriel hardware og sanitetshane:
Hårde dekorative PVD-lag (TiN-guld, rosaguld, sort zirconium) som bestod en minimum 500-timers neutral saltspraytest (ASTM B117).
Tilpasning og proceskonfiguration
Udstyrslayout skaleres efter produktionsvolumen, delegeometri og fabriksfodaftryk:
Kammergeometri:
Lodrette belastningsstrukturer til tungt værktøj; vandrette batchkonfigurationer til høj-kapacitetsindlæsning af armaturer.
Kildeintegration:
Hybride konfigurationer, der kombinerer katodiske lysbuekilder med ubalanceret magnetronsputtering (RMS) katoder for at afsætte glatte, dråbefri flerlagsarkitekturer.
Filtreringssystemer:
Valgfri magnetiske makropartikelfiltre (styrede lysbuefiltre) installeret på katodekanaler for at eliminere makro-dråber til optiske eller ultra-glatte præcisionsfunktionelle belægninger.
Automatiseringsgrænseflade:
Integration-klar til robotladede arme og automatiseret styret køretøj (AGV) batch-indstilling.
Strukturel integritet:Kammerlegemer gennemgår Helium massespektrometer lækagetest ved en følsomhedstærskel på<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.
Elektrisk sikkerhed og overholdelse:Bygget strengt efter CE- og IEC-retningslinjer for elektrisk sikkerhed, med fuld isolationstest og nødsikkerhedslåse.
Funktionel afløb-af (FAT):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 N / Rockwell indrykning HF1-HF2) bekræftes på standard testkuponer før afsendelse.

Installation og teknisk support
Webstedsforberedelsespakke:
Omfattende forsyningstegninger, der beskriver kølevandsstrømningshastigheder, udsugningsventilation, gulvbelastningskapacitet og elektriske faldspecifikationer leveres 4 uger efter -kontrakten.
Idriftsættelse på-stedet:
Fabrikscertificerede-procesingeniører håndterer mekanisk justering, vakuumlækagedetektion, elektrisk integration og indledende opsætning af basislinjeopskrifter på klientfaciliteten.
Overførsel af procesopskrift:
Leveringen inkluderer standardbaseline-opskrifter (TiN, TiAlN, CrN) og operationel træning for interne vedligeholdelses- og ingeniørteam.
Fjerndiagnosesupport:
Systemer udstyret med sikre industrielle router-gateways til fjernparameterfejlfinding og PLC-logikdiagnostik.
FAQ
Vi er velkendt- som en af de førende producenter og leverandører af tyndfilmsudstyr til buefordampning i Kina. Hvis du vil købe tilpasset lysbuefordampningsudstyr fremstillet i Kina, velkommen til at få prisliste fra vores fabrik. Kontakt os for priskonsultation.
