Produktoversigt

 

Industrial Cathodic Arc Evaporation System er en produktions-fysisk dampaflejringsplatform (PVD) udviklet til at afsætte slid--bestandige, korrosions--bestandige og hårde belægninger med lav-friktion. Ved at anvende elektriske lysbuer med lav-spænding og høj-strøm fordampes og ioniseres faste katodemål øjeblikkeligt på katodepunktet, hvilket genererer stærkt ioniseret metalplasma.


Dette system er designet og fremstillet i henhold til ISO 9001 kvalitetsstyringsstandarder og CE-overholdelsesdirektiver, og det er konfigureret til høj-belægningsoperationer i værktøjsfremstilling, bilkomponenter og industriel hardware. Standardkonfigurationer integrerer multi-katodelayouts med uafhængig magnetisk-feltstyring, programmerbare DC/pulsed bias-strømforsyninger og automatiseret vakuumstyring for at opretholde ensartet filmstøkiometri og tætte mikrostrukturer.

 
  • Arc Evaporation Thin Film System
    Industrial Cathodic Arc Evaporation Thin Film System er udviklet til den høje-aflejring af tætte, stærkt klæbende metalliske, legerede og keramiske sammensatte belægninger. Systemet fungerer via...
    Se mere
  • Arc Evaporation PVD-udstyr
    Det industrielle PVD-system til katodisk lysbuefordampning anvender elektriske lysbuer med lav-spænding og høj-strøm til at fordampe faste katodemål i et vakuummiljø. Denne mekanisme opnår en...
    Se mere
  • Vacuum Arc Tynd Film System
    Industrial Vacuum Arc Thin Film System anvender katodisk lysbuefordampning til at afsætte tætte, meget klæbende metal-, legerings- og keramiske tyndfilm. En lysbue med høj-strøm og lav-spænding...
    Se mere
  • Katodisk bue tyndfilmsudstyr
    Fysisk dampaflejring (PVD)-system, der anvender lokaliseret lav-spænding, høj-strøm elektriske lysbuer til at fordampe faste katodemål til fuldt ioniseret plasma. Den høje ioniseringshastighed (40...
    Se mere
  • Udstyr til buefordampning
    Industriel fysisk dampaflejring (PVD) platform udviklet til høj-syntese af tætte, slidbestandige- og funktionelle hårde belægninger. Opretholdelse af en høj-, lav-katodisk lysbueudledning på faste...
    Se mere
  • Buefordampning tyndfilmsudstyr
    Dette katodisk lysbuefordampningssystem fordamper faste katodemål via en elektrisk lysbue med lav-spænding og høj-strøm for at generere fuldt ioniseret metalplasma. Sammenlignet med standard...
    Se mere
 
Tekniske specifikationer

 

Parameter

Specifikationsområde / Standardkonfiguration

Kammerdimensioner

Diameter: 800 mm - 1800 mm (tilpassede lodrette/vandrette layouts)

Kammermateriale

Dobbelt-vægget SUS304 rustfrit stål med indvendige vand-kølekanaler

Ultimativt vakuumtryk

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups)

Katodekonfiguration

4 til 12 rektangulære/cirkulære buekilder med elektromagnetisk styring

Bue strømforsyning

300A - 500En justerbar konstant strøm, krusning<= 2%

Substrat Bias Power

0 til -1000V justerbar, pulseret bias frekvens 10 kHz - 100 kHz

Varmesystem

Radiant heater array, maks. temperatur 600 grader +/- 5 graders ensartethed

Rotation af emnet

Planetarisk eller dobbelt-akse rotation drevet af magnetisk væskegennemstrømning

Kontrolsystem

PLC + industriel pc, recept-drevet automatiseret sekvensstyring

Krav til hjælpemidler

Kølevand: 0,25-0,35 MPa, 20-25 grader; Strøm: 380V/480V, 3-faset, 50/60 Hz

 

Buefordampningsproces

Afsætningscyklussen fungerer under streng proceduremæssig kontrol for at garantere filmintegritet og grænsefladeadhæsion:

Evakuering og afgasning:

Vakuumkammeret pumpes ned til basistrykket. Underlaget opvarmes under vakuum for at eliminere flygtige overflader og resterende fugt.

01

Plasmaætsning (rengøring):

Metalionbombardement (ved hjælp af titanium- eller krommålkilder) renser substratoverfladen på atomniveau, fjerner native oxider og aktiverer grænsefladen.

02

Reaktiv aflejring:

Reaktive gasser (N2, CH4, O2) sprøjtes ind i kammeret gennem massestrømsregulatorer (MFC'er) for at reagere med metalplasmafluxen (f.eks. Ti, Cr, AlTi) og danne sammensatte film såsom TiN, TiAlN eller CrN.

03

Køling og udluftning:

Efter-aflejringskøling finder sted under beskyttende inert gasatmosfære før kammerudluftning og udtagning af dele.

04

 

Arc Evaporation Thin Film Equipment

 

Filmmaterialer og underlag

Understøttede katodemål
Titanium (Ti) og Titanium Aluminium (TiAl):Basismaterialer til standard TiN og TiAlN-belægninger med høj-oxidations-modstand (modstår oxidation op til 900 grader).


Chrom (Cr):Bruges til dekorative finish og korrosionsbestandige-CrN/CrC-lag.


Zirconium (Zr) & Titanium Silicium (TiSi):Anvendt til specialiserede dekorative og ekstremt slidbestandige-nanokompositfilm.


Kompatible underlagsmaterialer
High-Speed ​​Steel (HSS):Spirebor, endefræsere, kogeplader og brocher.


Cementeret hårdmetal (WC-Co):Indekserbare skær, oprømmere og forme.


Tekniske stål og legeringer:Automotive ventilkomponenter, gear, rustfrit stål sanitært hardware og titanium medicinske implantater.

 

Applikationer og præstationspåvirkning

Metal skæreværktøj:

Afsætning af TiAlN- og AlCrN-belægninger på hårdmetalskær og endefræsere, forlænger værktøjets levetid med 200 % til 300 % og muliggør tør bearbejdning med høj-hastighed.

Forme- og stemplingsmatricer:

Påføring af tætte,-lavfriktionsbelægninger for at reducere klæbemiddelslid, gnavning og fastklæbning af emnet under dybtrækning, hvilket reducerer nedetiden med op til 40 %.

Automotive drivlinje:

Behandling af stempelringe, brændstofindsprøjtningsstifter og trykventiler for at minimere grænsefriktionskoefficienten ned til < 0,15 og forhindre slid.

Industriel hardware og sanitetshane:

Hårde dekorative PVD-lag (TiN-guld, rosaguld, sort zirconium) som bestod en minimum 500-timers neutral saltspraytest (ASTM B117).

 

Tilpasning og proceskonfiguration

Udstyrslayout skaleres efter produktionsvolumen, delegeometri og fabriksfodaftryk:

Kammergeometri:

Lodrette belastningsstrukturer til tungt værktøj; vandrette batchkonfigurationer til høj-kapacitetsindlæsning af armaturer.

Kildeintegration:

Hybride konfigurationer, der kombinerer katodiske lysbuekilder med ubalanceret magnetronsputtering (RMS) katoder for at afsætte glatte, dråbefri flerlagsarkitekturer.

Filtreringssystemer:

Valgfri magnetiske makropartikelfiltre (styrede lysbuefiltre) installeret på katodekanaler for at eliminere makro-dråber til optiske eller ultra-glatte præcisionsfunktionelle belægninger.

Automatiseringsgrænseflade:

Integration-klar til robotladede arme og automatiseret styret køretøj (AGV) batch-indstilling.

 

 

Produktion & Kvalitetskontrol

Strukturel integritet:Kammerlegemer gennemgår Helium massespektrometer lækagetest ved en følsomhedstærskel på<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.


Elektrisk sikkerhed og overholdelse:Bygget strengt efter CE- og IEC-retningslinjer for elektrisk sikkerhed, med fuld isolationstest og nødsikkerhedslåse.


Funktionel afløb-af (FAT):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 N / Rockwell indrykning HF1-HF2) bekræftes på standard testkuponer før afsendelse.

Cathodic Arc Thin Film Equipment

 

Installation og teknisk support
 

Webstedsforberedelsespakke:

Omfattende forsyningstegninger, der beskriver kølevandsstrømningshastigheder, udsugningsventilation, gulvbelastningskapacitet og elektriske faldspecifikationer leveres 4 uger efter -kontrakten.

Idriftsættelse på-stedet:

Fabrikscertificerede-procesingeniører håndterer mekanisk justering, vakuumlækagedetektion, elektrisk integration og indledende opsætning af basislinjeopskrifter på klientfaciliteten.

Overførsel af procesopskrift:

Leveringen inkluderer standardbaseline-opskrifter (TiN, TiAlN, CrN) og operationel træning for interne vedligeholdelses- og ingeniørteam.

Fjerndiagnosesupport:

Systemer udstyret med sikre industrielle router-gateways til fjernparameterfejlfinding og PLC-logikdiagnostik.

 

 

FAQ

 

 

Spørgsmål: Hvordan styrer systemet generering af makropartikler (dråber), der er forbundet med lysbuefordampning?

A: Udstyret anvender justerbare magnetfeltstyrespoler til at flytte katodebuepunktet hurtigt hen over måloverfladen, hvilket reducerer opholdstid og dråbeudkastning. Til applikationer, der kræver ultra-glatte finish, afleder valgfrie filtrerede buemoduler metalplasmaet magnetisk væk fra makropartikler, før de når substratet.

Sp: Hvad er den typiske måludnyttelseshastighed for standardkatodekonfigurationen?

A: Standard cirkulære og rektangulære katoder opnår en målmaterialeudnyttelsesgrad på 40% til 55%, afhængigt af magnetfeltprofilen og måltykkelsen. Måludskiftning er mekanisk sikret med hurtige-klemmemekanismer for at minimere vedligeholdelsesnedetid.

Q: Kan dette udstyr integreres i en eksisterende automatiseret produktionslinje?

A: Ja. PLC-styringsarkitekturen understøtter SECS/GEM-kommunikationsprotokoller og standard digital I/O-handshaking til integration med automatiske præ-rengøringslinjer og robotindlæsningsceller.

Q: Hvad er standardgennemløbstiden for en brugerdefineret kammerkonfiguration?

A: Standard lodrette batchsystemer kræver 16 til 22 uger fra udtrækning af godkendelse til fabriksgodkendelsestest (FAT), afhængigt af tilpassede pumpegruppespecifikationer og strømforsyningsarrangementer.

Vi er velkendt- som en af ​​de førende producenter og leverandører af tyndfilmsudstyr til buefordampning i Kina. Hvis du vil købe tilpasset lysbuefordampningsudstyr fremstillet i Kina, velkommen til at få prisliste fra vores fabrik. Kontakt os for priskonsultation.

Send forespørgsel
Kontakt oshvis du har spørgsmål

Du kan enten kontakte os via telefon, e-mail eller online formularen nedenfor. Vores specialist vil kontakte dig snarest.

Kontakt nu!