Udstyr til buefordampning

Udstyr til buefordampning

Detaljer
Industriel fysisk dampaflejring (PVD) platform udviklet til høj-syntese af tætte, slidbestandige- og funktionelle hårde belægninger. Opretholdelse af en høj-, lav-katodisk lysbueudledning på faste måloverflader genererer en 80 % til næsten 100 % ioniseret plasmastrøm.
Produkt klassificering
Buefordampning tyndfilmsudstyr
 
Send forespørgsel
Beskrivelse
Tekniske parametre

Industriel fysisk dampaflejring (PVD) platform udviklet til høj-syntese af tætte, slidbestandige- og funktionelle hårde belægninger. Opretholdelse af en høj-, lav-katodisk lysbueudledning på faste måloverflader genererer en 80 % til næsten 100 % ioniseret plasmastrøm.


Kombineret med programmerbar negativ substratforspænding driver denne høje kinetiske energi atomare -skala grænsefladeblanding, hvilket giver overlegen filmadhæsion og nul søjleformet porøsitet. Kammerarkitekturen understøtter modulære multi-katodekonfigurationer til automatisk afsætning af enkelt-lags, flerlags-nano-laminater og støkiometriske gradientbelægninger (TiN, TiAlN, CrN, TiCN).

 

Tekniske specifikationer

 

Parameter

Teknisk specifikation

Kammerdimensioner

Brugerdefineret cylindrisk/rektangulær (Standard: Phi 800 mm x 1000 mm op til Phi 2000 mm)

Kammerstruktur

Dobbelt-vægget SUS304/316L rustfrit stål med integrerede spiralkølevandskanaler

Ultimativt vakuumtryk

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Backed by magnetic levitation turbomolecular + roots-rotary pump stack)

Pumpe-Ned cyklus

Atmosfære til 6,0 x 10^-3 Pa in<= 15 minutes

Katodebuekilder

4 til 8 uafhængige DC-kanaler (Phi 85 mm / Phi 100 mm vand-afkølede målholdere)

Arc Power Output

0-200 A trinløst justerbar pr. kanal; integreret mikrosekund bue quenching

Substrat Bias Supply

0-1000 V justerbar, pulserende DC-udgang (frekvensområde 10-50 kHz)

Opvarmning af underlag

Kvarts infrarød lampe array; driftsloft 600 grader (+/- 5 graders ensartethed)

Fixture Motion

Planetarisk eller dobbelt-akserotation via magnetiske fluid-roterende gennemføringer (0-5 RPM)

Styringsarkitektur

PLC + Industrial PC (IPC) kører i realtid-opskriftsudførelse med fastkablede sikkerhedslåse

 

Nøglefunktioner


Høj ioniseringshastighed:Direkte katodisk fordampning konverterer metallisk flux til ioner med høj-densitet, hvilket fremmer tætte kornstrukturer uden mikro-hulrum.


Aktiv magnetisk styring:Programmerbare elektromagnetiske spoler fejer buepunktet hen over målflader, undertrykker lokaliseret kraterdannelse og driver målmaterialeudnyttelsen ud over 60 %.


Dynamisk gaskontrol:Closed-loop Mass Flow Controllers (MFC'er) regulerer reaktiv gasinjektion (N2, O2, C2H2) via real-partialtrykfeedback.


Multi-kildesynergi:Kammervægge rummer hybride mållayouts, hvilket tillader uafbrudt sekventiel aflejring af keramiske multi-komponentlag i en enkelt vakuumcyklus.

 

Konfiguration af vakuumsystem


Roughing & Roots Group:Direkte-drevet vingepumpe parret med en høj-Roots-blæser til at håndtere høje gasbelastninger under reaktiv behandling.


Højvakuumfase:Magnetic levitation turbomolecular pump (>= 1600 L/s) koblet via en pneumatisk skydeventil med høj-konduktans.


Vakuum instrumentering:Interlocked Pirani og Cold Cathode dobbelt-måleropsætning, der overvåger det samlede tryk i området fra atmosfære ned til 10^-6 Pa.


Lækageintegritet:Elastomer-forseglede flanger med vand-kappet køling holder systemets lækagehastigheder under 1,0 x 10^-9 Pa*m3/s.

 

Fordampningsmaterialer og substratkompatibilitet


Katodemålmaterialer
Overgangsmetaller og legeringer:
Titan (Ti), Chrom (Cr), Zirconium (Zr), Aluminium (Al), Titan-Aluminium (TiAl 50/50, 33/67), Tungsten (W).


Ikke-metallisk:Grafit med høj-renhed (C) til diamant-som kulstof (DLC) og karbidlag.


Industrielle underlag
Værktøjsstål og karbider:High-Speed ​​Steel (HSS), Cemented Carbides (WC-Co).


Strukturelle legeringer:Austenitisk/martensitisk rustfrit stål, titaniumlegeringer (TC4), nikkel-baserede superlegeringer (Inconel).

 

Ansøgninger


Præcisionsskæreværktøj:Afsætning af TiAlN og AlTiN på boremaskiner, endefræsere og gearkogeplader for at hæve overfladens hårdhed til 3300-3500 HV og hæve den termiske oxidationsmodstand op til 800 grader.


Bilteknik:Lav-friktion, slidbestandige-belægninger på brændstofindsprøjtningskomponenter, stempelringe og trykventiler.


Forme og matricer:Aflejring af kromnitrid (CrN) på plastsprøjtestøbeforme for at forhindre klæbemiddelslid, mikro-svejsning og harpiksklæbning.

 

Tilpasningsmuligheder


Kammerstørrelse:Geometriske modifikationer skræddersyet til overdimensionerede arkitektoniske paneler eller små værktøjskarruseller med høj-gennemstrømning.


Kildehybridisering:Integration af katodisk lysbuekilder med ubalanceret magnetron (UBM) sputtering eller HiPIMS katoder i en samlet krop.


Automatiseringsgrænseflader:Fabriksintegration af MES via OPC-UA-protokoller sammen med muligheder for automatisk indlæsning.

 

Kvalitetskontrol og fabrikstest


Verifikation af heliumlækage:Massespektrometer-lækagekontrol udført på alle svejsninger og vakuumtætninger.


Elsikkerhedsrevision:Hipot-isolationstest, jordforbindelseskontrol og E-stop-kredsløbsverifikation.


72-timers indbrændingstest:Kontinuerlig tør-kørsel af mekaniske rotationsdrev, vandstrømsafbrydere og PLC-ventilsekvenser før adskillelse.


Fabriksaccepttest (FAT):Udført på -stedet for at validere basisvakuumniveauer, lysbuetændingsstabilitet og basislinjetykkelsesfordeling på kalibreringskuponer.

 

Installation og teknisk support


Overdragelse af faciliteterskrav:Detailed utility drawings specifying floor loading capacity, chilled water specifications (>= 0.3 MPa, 15-25 grader), udstødningsudsugning og strømforsyningsfald (3-faset, 380V/480V).


Felt idriftsættelse:Supervision på-stedet af mekaniske og elektriske feltingeniører, der dækker justering, tilslutning og prøvepartier.


Operatøruddannelse:Strukturerede instruktioner om softwareopskriftskonfiguration, katodemåludvekslingsprocedurer og forebyggende vakuumvedligeholdelse.


Fjerndiagnostik:Sikker industriel VPN-gateway indlejret i kontrolpanelet til softwaretelemetri og support til fejlfinding.

 

Ofte stillede spørgsmål

 

Q: Hvordan håndterer systemet mikrodråber (makropartikler), der er almindelige i ufiltrerede katodisk lysbueprocesser?

A: Standardkonfigurationer bruger optimerede elektromagnetiske styrefelter til at styre buepunkthastigheden og minimere dråbeemission. Til halvleder- eller optiske applikationer, der kræver sub-mikron-defektniveauer, kan FCA-magnetiske kanalmoduler (Filtered Cathodic Arc) integreres for at fange neutrale makropartikler.

Q: Hvad er den typiske måludskiftningsomløbstid?

Sv: Katoder bruger hurtige-mekaniske fastspændingsdesign. En uddannet operatør kan udføre et komplet sæt måludskiftninger inden for 30 minutter uden at bryde strukturelle kammerforseglinger.

Spørgsmål: Kan systemet udføre automatiserede forløb med flere-lag uden operatørindblanding?

A: Ja. PLC-opskriftsmotoren styrer fler-opskrifter, administrerer automatisk overgange i reaktive gaspartialtryk, substratbiasprofilering og sekventiel strøm-kanalaktivering.

Spørgsmål: Hvad er de nøjagtige forudsætninger for grundlæggende hjælpeprogrammer for forberedelse af webstedet?

A: The installation site must supply a closed-loop industrial chiller (15-30 kW cooling capacity), clean compressed air (>= 0.6 MPa), high-purity process gases (Ar, N2, C2H2 at >= 99.999% renhed) og stabil industriel 3-faset strøm.

 

Populære tags: lysbuefordampningsaflejringsudstyr, Kina buefordampningsaflejringsudstyr, producenter, leverandører, fabrik

Send forespørgsel
Kontakt oshvis du har spørgsmål

Du kan enten kontakte os via telefon, e-mail eller online formularen nedenfor. Vores specialist vil kontakte dig snarest.

Kontakt nu!