Buefordampning tyndfilmsudstyr

Buefordampning tyndfilmsudstyr

Detaljer
Dette katodisk lysbuefordampningssystem fordamper faste katodemål via en elektrisk lysbue med lav-spænding og høj-strøm for at generere fuldt ioniseret metalplasma. Sammenlignet med standard termisk fordampning eller magnetronforstøvning leverer denne PVD-proces højere plasmadensitet og overlegen film-til-underlagsvedhæftning, skræddersyet til funktionelle, slidbestandige- og dekorative hårde belægninger.
Produkt klassificering
Buefordampning tyndfilmsudstyr
 
Send forespørgsel
Beskrivelse
Tekniske parametre

Dette katodisk lysbuefordampningssystem fordamper faste katodemål via en elektrisk lysbue med lav-spænding og høj-strøm for at generere fuldt ioniseret metalplasma. Sammenlignet med standard termisk fordampning eller magnetronforstøvning leverer denne PVD-proces højere plasmadensitet og overlegen film-til-underlagsvedhæftning, skræddersyet til funktionelle, slidbestandige- og dekorative hårde belægninger.

 

Tekniske specifikationer

 

Parameter

Specifikationsområde/værdi

Kammerdimensioner

Brugerdefinerede cylindriske/bokskonfigurationer (Standard: Φ600 mm x 600 mm til 1200 mm x 1200 mm)

Ultimativt vakuumtryk

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and rotary vane/roots pump suite)

Pumpe-nedetid

Atmosfærisk til 8,0 x 10^-3 Pa in<= 15 minutes (Dry, clean, empty chamber)

Arc strømforsyninger

Puls- og jævnstrømsgeneratorer (output: 0 - 200En justerbar krusning<= 1%)

Katodekilder

2 til 6 magnetiske-filtrerede eller standard cirkulære/rektangulære styrebuekilder

Substrat bias spænding

0 - -1000V DC/pulseret bias (frekvens: 10 - 100 kHz)

Rotation af underlag

Planetarisk eller enkelt -akse rotationsmekanisme (1 - 15 RPM) med vand/elektriske gennemføringer

Driftskontrol

PLC + industriel pc med automatiseret opskriftsudførelse og manuel interlock-overstyring

 

Nøglefunktioner


Magnetisk filtrerede kilder:Interne magnetiske kanaler afbøjer uioniserede mikrodråber væk fra dampfluxen, hvilket sikrer lav overfladeruhed (Ra) for præcisionsdele.


Lukket-løkkebiaskontrol: Synchronized pulsed bias regulation manages ion bombardment energy dynamically, relieving residual internal stress in thick ceramic coatings (>10 um).


Høj ioniseringshastighed:Plasmaioniseringseffektiviteten når 40 % - 80 %, hvilket driver tæt kemisk binding uden ekstern radiofrekvensassistance.


Modulært kammerdesign:Fremstillet af 304/316L rustfrit stål med elektro-polerede indvendige overflader (Ra<= 0.4 um), minimizing outgassing and vacuum cycle times.

 

Konfiguration af vakuumsystem


Skrubbe- og rodpumper:To--skovlepumper parret med mekaniske boosterblæsere håndterer indledende skrub og høje gasbelastninger under reaktiv N2- eller C2H2-injektion.


Højvakuumpumper:Magnetiske levitationsturbo-molekylære pumper (1200 - 3200 L/s) opretholder høje pumpehastigheder for resterende vanddamp og lette gasser.


Ventiler og måler:Pneumatiske gateventiler, ISO/CF høje-vakuumforseglingsflanger og kombinerede Pirani/hot-katodeioniseringsmålere integreret direkte i PLC-låsesløjfen.

 

Materialer og substratkompatibilitet


Kompatible katodemål
Rene metaller:
Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Ni, Ag, Mo, W


Legeringer og forbindelser:TiAl, CrAl, TiSi, WC, grafitmål til diamant-lignende kulstof (DLC) aflejring


Underlagsmaterialer
Hårde metaller og karbider:
Hårdmetal (WC-Co), høj-stål (HSS), skæreindsatser i rustfrit stål


Halvledere og keramik:Siliciumwafers, aluminiumoxid (Al2O3), teknisk teknisk keramik

 

Ansøgninger


Skæreværktøj og matricer:TiN, TiAlN og CrN aflejring på bor, endefræsere og stansematricer for at øge overfladens hårdhed til 2500 - 3500 HV og reducere friktionen.


Bilkomponenter:Slidfaste- og lav-friktionslag på stempelringe, injektorstifter og tandhjulstænder.


Dekorative hårde belægninger:PVD-farvebelægninger (guld, rosaguld, gunmetal, sort titanium) til hardware- og forbrugerelektronikhuse.


Funktionelle tynde film:Ledende og barrierelag til mikroelektronik og halvlederemballage.

 

Tilpasning


Kammerstørrelse:Skalerede volumenvariationer, der matcher specifikke batchgeometrier og produktionsfodspor.


Kildehybridisering:Multi-katode-integrationer, der kombinerer katodiske buekilder med ubalanceret magnetronsputtering (UBMS) katoder til gradient-flerlagsfilm.


Underlagsfastgørelse:Brugerdefinerede planetariske jigs, lokaliserede varmesystemer op til 600 grader og tilpassede strømgennemføringer.


Softwareintegration:Brugerdefineret PLC-opskriftslogik, SCADA-datalogning og industriel overholdelseskonfigurationer.

 

Kvalitetskontrol


Lækagedetektion:Helium massespektrometer test på alle kamre og svejsesømme, der garanterer en samlet lækagerate på<= 1.0 x 10^-9 Pa·m^3/s.


Elektrisk sikkerhedsinspektion:Højt-potentiale dielektrisk modstå test, jordforbindelseskontinuitetstjek og interlock responsverifikation før kasser.


Materiale sporbarhed:Materialetestrapporter (MTR'er) leveres for strukturelt rustfrit stål, vakuumtætninger og højspændingsisoleringskomponenter-.


Prøvekørsel før-forsendelse:72-timers kontinuerlig tørkørselstest af pumpepakken, rotationsdrev og strømforsyninger under simulerede cyklusser.

 

Installation og teknisk support


Vejledning til forberedelse af websted:Utilities documentation covering floor load limits, cooling water flow rates (>15 m^3/h ved 20 - 25 grader), udstødningsudsugning og elektriske fald (380V/480V, 3-faset, 50/60Hz).


Ibrugtagning og accept:Factory Acceptance Testing (FAT) på vores anlæg; Site Acceptance Testing (SAT) og procesoverdragelse udført på -stedet af lokale ingeniører.


Livscyklussupport:Sikker VPN-fjerndiagnostik, lagerbeholdning af reservedele (mål, skjolde, tætninger) og lokal teknikerundervisning.

 

FAQ

 

Spørgsmål: Hvordan minimerer systemet dråbedannelse (makropartikel), der er forbundet med lysbuefordampning?

A: Systemet anvender magnetisk filtrerede katodisk lysbuekilder (magnetisk styring og kanalfiltrering). Dette bøjer plasmastrømmen, mens mikrodråber fanges på indvendige afskærmninger, hvilket giver en glat,-fri filmmorfologi.

Q: Hvad er substratets temperaturområde under aflejring, og hvordan styres varme?

A: Driftstemperaturer varierer fra 150 grader til 500 grader. Integrerede strålevarmere og lukkede-vand-kølekanaler inde i substratholderen forhindrer termisk forvrængning af følsomme komponenter.

Q: Kan udstyret køre automatiserede produktionscyklusser kontinuerligt?

A: Ja. PLC-arkitekturen automatiserer nedpumpning-, målkonditionering, lysbuetænding, reaktiv gaskontrol via massestrømscontrollere (MFC'er) og udluftningssekvenser på tværs af multi-batchkørsel.

Sp.: Hvilke hjælpekrav skal være klar på-webstedet før levering?

Sv: Kravene omfatter stabil kølevandsforsyning, trykluft (0.6 - 0.8 MPa) til pneumatiske ventiler, elektriske strømforsyninger, der matcher systembelastningen (60 - 120 kVA) og regulerede procesgasledninger (argon, nitrogen, acetylen).

 

Populære tags: lysbuefordampning tyndfilm udstyr, Kina buefordampning tyndfilm udstyr fabrikanter, leverandører, fabrik

Send forespørgsel
Kontakt oshvis du har spørgsmål

Du kan enten kontakte os via telefon, e-mail eller online formularen nedenfor. Vores specialist vil kontakte dig snarest.

Kontakt nu!