Industrial Vacuum Arc Thin Film System anvender katodisk lysbuefordampning til at afsætte tætte, meget klæbende metal-, legerings- og keramiske tyndfilm. En lysbue med høj-strøm og lav-spænding fordamper faste katodematerialer til en stærkt ioniseret plasmastrøm (40 % - 80 % ioniseringshastighed), hvilket sikrer enestående film-til-bindingsstyrke og høje afsætningshastigheder.
Udviklet til industriel produktion og avanceret materialeforskning, integrerer platformen multi-katodekonfigurationer, præcis reaktiv gasstyring og automatiseret proceskontrol til industrielle belægninger såsom TiN, TiAlN, CrN og DLC.
Tekniske specifikationer
|
Parameter |
Specifikation |
|
Kammerdimensioner |
Phi 600 mm x 600 mm (kan tilpasses op til Phi 1500 mm) |
|
Kammerstruktur |
304 rustfrit stål, dobbelt-vandkølet-væg, indvendig elektropolering Ra<= 0.4 um |
|
Basistryk |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (ISO 3567 compliant) |
|
Arbejdstryk |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Pumpepakke |
Rotationsvinge + Roots blæser + høj-diffusions-/turbomolekylær pumpe |
|
Bue strømforsyning |
DC/pulserende DC-generatorer (10 A - 200 A, krusning<= 1%) |
|
Substrat Bias |
Pulserende DC Bias: 0 ~ -1000 V justerbar med bueundertrykkelse |
|
Katodekilder |
2 ~ 6 magnetiske-filtrerede eller styrebuekilder (Phi 85 / Phi 100 mm) |
|
Underlagsarmatur |
Planetrotation (1 ~ 10 RPM) med opvarmning op til 600 C |
|
Styringsarkitektur |
PLC + Industrial Touch Screen PC (Opskriftsautomatisering, CFR 21 Part 11 klar mulighed) |
Nøglefunktioner
Høj plasmaionisering:Katodisk lysbueionisering (40 % - 80 %) fremmer tæt filmkernedannelse og eliminerer søjleformede mikrostrukturdefekter.
Forbedret vedhæftningsstyrke:In-situ høj-ionrensning opnår kritiske ridsebelastninger (Lc) på over 40 N på værktøjsstål (ASTM C1624 bekræftet).
Toroidal magnetisk filtrering (valgfrit):Afbøjer plasmabaner for at fange og eliminere makro-dråber, hvilket producerer defekte-fri glatte nano-belægninger.
Reaktiv kontrol med lukket-løkke:Massestrømsregulatorer (MFC'er) regulerer præcist N2, O2, C2H2 og Ar til støkiometrisk sammensætningsaflejring.
Hurtig vedligeholdelse:Hurtig-release katodesamling tillader måludskiftning inden for 30 minutter.
Konfiguration af vakuumsystem
Skrubbe- og rødderstadie:Direkte-drevet roterende vinge og mekanisk boosterpumpe til hurtig nedtrækning til 10 Pa.
Højvakuumfase:Oliediffusionspumpe med flydende nitrogen kuldefælde eller magnetisk leviteret turbomolekylær pumpe (1600 L/s), der når < 5 x 10^-4 Pa.
Målere og låse:Dual Pirani og kold katode ioniseringsmålere parret med automatiserede pneumatiske gateventiler og PLC interlocks.
Fordampningsmaterialer og substratkompatibilitet
Cathode Targets (Purity >= 99.95%):
Metaller:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Ag, Au
Legeringer/forbindelser:TiAl, TiSi, CrAl, WC, Grafit (C)
Underlagsmaterialer:
Værktøjsstål:SKH51, M2, D2, hårdmetalskær
Legeringer:304/316L rustfrit stål, Inconel, Ti-6Al-4V
Keramik/Glas:Alumina, kvarts (overfladeaktivering påkrævet)
Ansøgninger
Skære- og formværktøjer:TiN-, TiAlN- og AlCrN-belægninger på bor, endefræsere og stansematricer (hårdhed: 2500 - 3200 HV).
Bilkomponenter:Lav-friktion, slidbestandige-belægninger på stempelringe og brændstofindsprøjtningsstifter.
Dekorativ hardware:Funktionel metallisk finish (guld, rosa guld, gunmetal sort) til forbruger hardware.
Biomedicinske implantater:Biokompatible hårde belægninger på kirurgiske og dentale enheder (ISO 10993 kompatible profiler).
Tilpasningsmuligheder
Kammerskala:Forstørrede rektangulære eller cylindriske kamre til batcher med store-volumener.
Hybridkonfigurationer:Dobbelt-teknologiintegration, der parrer katodiske lysbuekilder med ubalanceret magnetronforstøvning (UBMS).
Bias Modes:RF bias integration til isolerende eller halvleder substrater.
Dataintegration:OPC UA / Modbus TCP-protokoller til MES-forbindelse.
Kvalitetskontrol og test
Udført under ISO 9001 kvalitetsstyringsstandarder:
Helium lækagedetektion:Massespektrometertest på alle svejsninger (Systemlækagerate<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s, ISO 3529 compliant).
Elektrisk sikkerhed:Isolationsmodstand og jordingskontinuitet revideret i henhold til CE / IEC 60204-1.
Funktionel validering:72-timers kontinuerlig mekanisk og elektrisk tørkørsel.
Fabriksaccepttest (FAT):Prøvedeponering, der verificerer tykkelsesensartethed (+/- 5%) og adhæsionsmålinger på klienttestkuponer.
Installation og teknisk support
Facilitets forud-Tjek:Complete utility blueprint detailing cooling water (>= 5 m^3/h), strømkapacitet og udstødningsventilation.
Idriftsættelse på-stedet:Overvåget mekanisk placering, forsyningstilslutning og vakuumkvalifikation af feltingeniører.
Operatøruddannelse:5-dages praktisk program, der dækker rutinemæssig drift, vedligeholdelse, måludskiftning og PLC-programmering.
Livscyklusservice:Sikker VPN-fjerndiagnostik og 48-timers afsendelse af kritiske reservedele.
Ofte stillede spørgsmål
Q: Hvordan påvirker magnetisk filtrering aflejringshastigheden?
Sv: Mens magnetiske filtre fuldstændigt eliminerer makro-dråber til præcisionsoptiske/elektroniske overflader, reducerer plasmastyrebanen den effektive aflejringshastighed med ca. 20 % - 30 % sammenlignet med direkte ikke-filtrerede styrebuekonfigurationer.
Q: Hvad er det typiske måludskiftningsinterval?
A: Et standard Phi 100 mm titanium mål, der drives ved 100 A, giver 60 - 100 produktionsbatcher, afhængigt af filmtykkelse og driftscyklus.
Sp.: Er ikke-ledende substrater kompatible med dette system?
A: Ja, forudsat at en pulseret DC- eller RF-forspændingskonfiguration er specificeret for at forhindre akkumulering af overfladeladning og buedannelse under ionbombardement.
Spørgsmål: Hvad er de nøjagtige facilitets hjælpeparametre for standardenheden?
A: Strømforsyning: 3-faset, 380 V +/- 10%, 50/60 Hz (~45 kW i alt).
Cooling Water: >= 5 m^3/h ved 0.2 - 0.3 MPa (15 C - 25 C).
Trykluft: 0.5 - 0.7 MPa til pneumatisk aktivering.
Populære tags: vakuumbue tynd film system, Kina vakuum bue tynd film system producenter, leverandører, fabrik
