Ion-Assisted Vakuum Evaporation System integrerer høj-vakuum termisk eller elektron-strålefordampningskilder med en Kaufman-type eller End-Hall-ionkilde. Ved at bombardere den voksende film med ioniseret gas (Ar eller O2) under fysisk dampaflejring (PVD), overfører systemet kinetisk energi til adatomer, undertrykker søjleformet mikrostruktur og forhindrer fugtabsorption i optiske og dielektriske tynde film.
Bygget til renrumsintegration og kontinuerlig multi-skifteproduktion skalerer systemet fra R&D-fodaftryk (300 mm kamre) til industrielle linjer med høj-gennemstrømning (900 mm dobbelt-dørs- og planetrotationskonfigurationer).
Tekniske specifikationer
|
Parameterkategori |
Teknisk specifikation |
|
Kammerdimensioner |
600 mm x 600 mm x 600 mm (kan tilpasses op til 1200 mm) |
|
Kammermateriale |
304L rustfrit stål, indvendige overflader elektropoleret til Ra < 0,2 um |
|
Basistryk |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Achieved within 45 minutes from atmosphere) |
|
Ultimativt pres |
<= 8.0 x 10^-6 Pa |
|
Fordampningskilder |
Multi-lomme E-strålepistol (6 x 15cc / 4 x 40cc) og resistive termiske kilder |
|
Ion kilde |
Slut-Hal/Gitterløs ionkilde (strålespænding: 50-300 V, ionstrøm: 0-500 mA) |
|
Underlagsarmatur |
Planetarisk rotationsmekanisme (0-20 RPM) med valgfri opvarmning (RT til 350 grader C) |
|
Kontrol af filmtykkelse |
Quartz Crystal Microbalance (QCM) med dobbelt sensorhoved og PID-controller med lukket-sløjfe |
Nøglefunktioner
Tæt på-bulkdensitet:Forhøjet adatom-overflademobilitet eliminerer synlig filmporøsitet og maksimerer den mekaniske hårdhed.
Intrinsic Stress Tuning:Justerbar ionstråleenergi neutraliserer mekanisk stress og forhindrer delaminering på tykke dielektriske stakke.
Lav-termisk-budgetbehandling:Momentum-drevet fortætning muliggør høj-belægning på temperatur-følsomme polymersubstrater uden termisk forvrængning.
Automatisering af opskrifter:PLC-kontrollerede vakuumlåse og pumpe-down-sekvensering administreret via et industrielt touch--panel HMI med datalogning.
Konfiguration af vakuumsystem
Skrubbefase:Dobbelt-mekanisk roterende vingepumpe kombineret med en rodblæser (hastighed på 150 l/s) for hurtig overgang.
Højvakuumfase:Magnetisk leviteret turbomolekylær pumpe (1600 L/s) bakket op af en olie-fri tør scroll-pumpe for at eliminere tilbagestrømning af kulbrinter.
Kryogen mulighed:Flydende nitrogen kuldefælde og kryopumpe-integration til lavt vand-partialtryk.
Vakuummåling:Kryds-kalibrerede Pirani- og koldkatodemålere til-realtidsfeedback fra atmosfæren til 10^-7 Pa.
Fordampningsmaterialer og substratkompatibilitet
Fordampningsmaterialer
Oxider:SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3
Fluorider:MgF2, LaF3
Metaller:Al, Ag, Au, Ti, Cr
Substratkompatibilitet
Optiske underlag:Fused silica, N-BK7, silicium, germanium og zinkselenidvinduer.
Halvlederskiver:100 mm til 300 mm silicium og sammensatte halvlederskiver.
Polymerer:PET-, PI- (polyimid)- og PMMA-film, der bruger lav-temperatur IAD-parametre.
Ansøgninger
Præcisionsoptik:Anti-reflekterende (AR) belægninger, laserspejle og smalle båndpasfiltre, der kræver modstand mod fugt.
Mikroelektronik:Metal gate-elektroder, adhæsionslag og passiveringsbarrierer i halvlederemballage.
Optoelektronik:Transparente ledende oxid-kontakter (TCO) og OLED-fugtigheds--barriereindkapslingslag.
Tilpasningsmuligheder
Kammergeometri:Rektangulære eller cylindriske konstruktioner skræddersyet til renrumsvægge.
Multi-kildeintegration:Sam-inddampningsopsætninger, der rummer op til tre E-strålekanoner og fire termiske både.
In-Situ Metrology Ports:Flangeintegrationsporte til spektroskopiske ellipsometre eller optiske overvågningssystemer.
Automatiseringsniveau:Semi-automatisk research builds eller fuldautomatisk håndtering af kassette-til-kassettewafer.
Kvalitetskontrol og testprotokoller
Lækagedetektion:Helium massespektrometertest på hvert kammer med en streng afvisningstærskel på < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Renlighedsbekræftelse:Residual Gas Analyser (RGA)-scanning udført før-afsendelse for at bekræfte nul organiske kulbrinter.
Systembrænd-In:72-timers kontinuerlig tørkørselstest af mekaniske drev, kølemanifolder og elektriske låse.
Dokumentation:Materialemølletestcertifikater (MTR'er), elektriske diagrammer og fabriksgodkendelsestest (FAT) rapporter.
Installation og teknisk support
Forberedelse af webstedet:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 m^3/h), ren tør luft (CDA) og udstødning.
Idriftsættelse:Udrulning af feltservice til mekanisk nivellering, forsyningstilslutning, vakuumkalibrering og opskriftssignering-.
Operatøruddannelse:5-dages on-site program, der dækker drift, forebyggende vedligeholdelse, fejlfinding og sikkerhedslåse.
Reservedele:Kritiske sliddele (filamenter, QCM-krystaller, tætninger, turbomolekylære lejer) lagerføres regionalt.
Ofte stillede spørgsmål
Spørgsmål: Hvordan forhindrer IAD drift af brydningsindeks?
A: Ionbombardement fjerner indespærrede restgasser og komprimerer filmvækst til næsten -bulkdensitet. Dette stopper omgivende fugtkondensering ved atmosfærisk udluftning, hvilket sikrer nul center-bølgelængdeforskydning over tid.
Q: Hvad er vedligeholdelsesintervallet for ionkildegitre og filamenter?
A: Slut-Hallionkilder fungerer i 150-200 procestimer afhængigt af reaktive gasser. Quick-release klemmer tillader udskiftning af komponenter på under 30 minutter.
Q: Kan systemet håndtere reaktive processer som TiO2?
A: Ja. Dedikerede høj-præcisionsmassestrømsregulatorer (MFC'er) sprøjter oxygen eller nitrogen direkte ind i kammeret og ionkilden, hvilket sikrer fuldstændig støkiometri og eliminerer sub-oxidabsorption.
Populære tags: ion-understøttet vakuumfordampningsudstyr, Kina ion--assisteret vakuumfordampningsudstyr, producenter, leverandører, fabrik
