EBE-V600-serien er en PVD-platform (fysisk dampaflejring) i industriel-skala designet til præcis tynd-filmbelægning af optiske komponenter, halvlederenheder og avancerede materialer. Ved at rette en høj-, magnetisk fokuseret elektronstråle mod kildematerialer inde i vand-afkølede digler, opnår systemet hurtige fordampningshastigheder, mens termiske belastninger holdes isoleret fra kammervæggene.
Arkitekturen inkorporerer multi-lommeelektronkilder og dual quartz crystal microbalance (QCM)-sensorer, hvilket sikrer støkiometrisk filmgengivelse og ensartet tykkelseskontrol på tværs af multi-lags dielektriske eller metalliske stakke.
Tekniske specifikationer
|
Teknisk parameter |
Specifikationsværdi |
|
Kammergeometri og materiale |
Φ600 mm x 600 mm cylindrisk beholder; SS304 elektropoleret inderside med udvendige kølevandskapper |
|
Ultimativt basistryk |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping) |
|
Pumpe-ned cyklustid |
<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa) |
|
Elektronpistolkraft |
6 kW til 12 kW multi-lommekonfiguration med 270 graders stråleafbøjning |
|
Digel ildstedskapacitet |
4 til 6 lommer (Udskiftelige kobber/grafit-digler, 15cc til 40cc volumen pr. lomme) |
|
Rotation af underlagstrin |
0 til 30 RPM variabel hastighed planetarisk eller direkte drev |
|
Underlags varmeområde |
Omgivende til 600 grader via PID lukket-sløjfe halogenlampesystem |
|
Overvågning af tykkelse |
Dobbelt QCM-sensor med automatisk lukkerfeedback-kontrol |
Nøglefunktioner
270 graders magnetisk afbøjning E-pistol:Isolerer wolframfilamentet fra direkte dampveje, forhindrer kortslutning-og forlænger driftslevetiden mellem vedligeholdelsesintervallerne.
Digital fejekontrol:Programmerbare rastermønstre fordeler elektronenergi ensartet hen over fordampningsoverfladen, hvilket mindsker dannelsen af pinhole og præferentiel fordampning under legeringsaflejring.
Afkoblet vakuumarkitektur:Rubearbejdning og høj--vakuumpumpeledninger er strukturelt isoleret fra hovedkammerrammen for at undertrykke mekanisk vibrationsoverførsel under filmvækst.
Hardware Interlock Safety Matrix:Realtids-PLC-overvågning af kølevandsflow,-højspændingsfeedback, pneumatisk tryk og dørtætningsintegritet.
Konfiguration af vakuumsystem
Vakuum under-kredsløbet er konstrueret til hurtig cykling og lavt basistryk for at minimere resterende gasinkorporering (H2O, O2, N2) i voksende film:
Høj-vakuumpumpe:1200 L/s turbo-molekylær pumpe understøttet af en dobbelt-skruevingepumpe (eller tør-scroll-pumpekonfiguration for at overholde renrumskravene).
Isolationsforanstaltning:Pneumatisk aktiveret høj-konduktansventil, der isolerer kammeret under belastningsoperationer.
Vakuummåling:Kombinerede Pirani og kold katode ioniseringsmålere, der dækker et kontinuerligt område fra atmosfære til 10^-6 Pa.
Filmmaterialer og underlag
Kompatible fordampningskilder
Oxider og dielektriske stoffer:SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, HfO2
Rene metaller:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Ni
Halvledere og ledere:Si, Ge, ITO (Indium Tin Oxide)
Ansøgninger
Optiske interferensfiltre:Højt-indeks og lavt-indeks fler-lagsstabelaflejring til smalle-båndpasfiltre og laserspejle.
Fremstilling af halvlederenheder:Ohmisk kontaktdannelse, gateoxidaflejring og metalfrølag.
OLED & Display Research:Tynd metallisk katodeaflejring og organiske/uorganiske passiveringstests i flere-lag.
Hårde ildfaste belægninger:Beskyttende slidbestandige-lag til mekaniske og rumfartskomponenter.
Tilpasning
Kammerudvidelse:Udvidede karhøjder eller rektangulære geometrier skræddersyet til integration af klyngeværktøj.
Kildeintegration:Samtidige termiske fordampningskilder (resistive både) kombineret med elektronstrålekanoner.
Ion-assisteret aflejring (IAD):Integration af en slut-Hall- eller Kaufman-ionkilde til filmfortætning og stressjustering.
Softwarearkitektur:PLC/HMI-opskriftsprogrammering i overensstemmelse med Siemens S7 eller Beckhoff automationsramme.
Kvalitetskontrol
Massespektrometer Helium lækagetest:Hver kammersvejsning testes til en afvisningstærskel på < 1 x 10^-9 Pa·m3/s før integration.
Elektrisk overensstemmelse:Høj-dielektrikum modstår tests og jordingskontinuitetsverifikation i henhold til CE/UL-retningslinjer.
Fabriksaccepttest (FAT):72-timers kontinuerlig tør-kørselstestlogning af basistrykkurver, e-beam sweep-repeterbarhed og interlock-responstider. Testdokumentation leveret med enheden.
Installation og teknisk support
Idriftsættelse af webstedet:Fabrikscertificerede-ingeniører administrerer mekanisk justering, verifikation af vakuumlækage, overvågning af forsyningsforbindelser og indledende kalibreringskørsler.
Teknisk træning:3-dages drifts- og vedligeholdelsesprotokoltræning på stedet, der dækker filamentudskiftning, ombygning af vakuumventiler og redigering af opskrifter.
Dokumentationsleverancer:Komplette tekniske bindere inklusive P&ID-skemaer, elektriske ledningsdiagrammer, PLC-backupfiler og reservedelsspecificering.
Ofte stillede spørgsmål
Spørgsmål: Hvad er den operationelle levetid for e-gun wolframfilamentet, og hvordan serviceres det?
A: Under standard arbejdstryk (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.
Q: Hvordan forhindrer systemet spyt under oxidaflejring?
A: Den digitale sweep-generator fordeler elektronenergi over en beregnet rastermatrix på oxidpelleten. Dette eliminerer lokal overophedning, forhindrer eksplosiv kogning og undertrykker mikro-udstødning af dråber.
Q: Hvilken forsyningsinfrastruktur er obligatorisk på installationsstedet?
A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 L/min, temperatur 18 grader til 25 grader .
Elektrisk net: 3-faset, 380V ± 10%, 50/60 Hz (eller fabrikskonfigureret til regionale standarder).
Trykluft: 0,5 MPa til 0,7 MPa tør luft til pneumatiske ventilaktuatorer.
Sp: Er fjerndiagnoseadgang integreret i kontrolsystemet?
A: Ja. En isoleret Ethernet-port understøtter sikker VPN-forbindelse til ekstern PLC-loghentning og softwarefejlfinding af vores ingeniørteam.
Populære tags: elektronstrålefordampning tyndfilm udstyr, Kina elektronstrålefordampning tyndfilm udstyrsproducenter, leverandører, fabrik
